文献类型:专著 浏览次数:11
  • 题名:图说集成电路制造工艺
  • 责任者:孙洪文编著
  • 出版社化学工业出版社
  • 出版年:2023.08
  • ISBN:978-7-122-43290-2
  • 定价:99.00
  • 载体形态项:271页 24cm
  • 个人责任者:孙洪文编著
  • 学科主题:集成电路工艺
  • 中图法分类号:TN405
  • 提要文摘附注:本书首先用轻松有趣的语言介绍了半导体行业的发展史 ; 接着将整个芯片制造流程分为“加”“减”“乘”“除”四类, 用图说的形式, 全面细致地讲解了氧化、化学气相淀积、物理法沉积薄膜、扩散、离子注入、清洗硅片、刻蚀、化学机械抛光、离子注入退火、回流、制备合金、光刻等核心工艺, 同时对半导体材料、净化间、化学试剂、气体、半导体设备、掩膜版等必需条件也做了介绍。
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