文献类型:专著 浏览次数:4
  • 题名:设计场.中央美术学院设计研究书系.第1辑
  • 责任者:中央美术学院设计研究所编著
  • 出版社北京工艺美术出版社
  • 出版年:2010.09
  • ISBN:978-7-80526-765-4
  • 定价:78.00
  • 载体形态项:161页 28cm
  • 个人责任者:
  • 学科主题:设计学
  • 中图法分类号:TB21-53
  • 提要文摘附注:本书探讨了设计行业的教育问题、国际上的设计发展问题、国内的设计发展问题等深刻的行业话题,并收录当今知名的青年设计师们的优秀作品,讲述了当代各门类设计的发展现状,对学习设计的学生、青年教师和设计师具有很强教育意义和实用性。
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